Optische Beschichtung
Verwenden:Niobiumzielewerden verwendet, um NB-Filme mit hoher Reflexivität (z. B. Reflexionskräfte> 95% bei 45-Grad-Vorfallwinkel) in Lasern und Infrarotdetektoren abzulegen.
Prozessparameter: AR -Gas -Sputterdruck 0. 5 PA, Leistungsdichte 3 W/cm², Ablagerungsrate ca. 10 nm/min.
Elektronische Verpackung
Verwendung: Bildung eines zusammengesetzten Ziels mit Kupfer, um ein Verpackungssubstrat mit hoher thermischer Leitfähigkeit und niedriger thermischer Expansionskoeffizient vorzubereiten.
Typische Struktur: Cu/NB/Cu Multilayer -Verbundziel, Wärmeleitfähigkeit> 200 W/(M · K).
Hochreinheit Niobium Zielproduktdetails Bilddisplay
Hochreinheit Niobiumziel
Hochreinheit Niobium Zielmetall