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Tiegel aus hochreinem Tantalmetall

Tiegel aus hochreinem Tantalmetall

Tiegel aus hochreinem Tantalmetall bezeichnen Behälter aus Tantalmetall mit einer Reinheit von typischerweise größer oder gleich 99,98 %, oft bis zu 99,99 %, die für die strengsten industriellen Prozesse konzipiert sind, bei denen selbst Verunreinigungen im ppm-Bereich die Produktqualität oder die Reproduzierbarkeit des Prozesses beeinträchtigen können.
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Beschreibung
Technische Parameter
Reinheitsstandards für Tiegel aus hochreinem Tantalmetall
 

„Hohe Reinheit“ geht in diesem Zusammenhang über handelsübliche Standardqualitäten hinaus und zielt auf Verunreinigungswerte im einstelligen ppm-Bereich für Fe, Ni, O und C ab. Erreicht wird dies durch mehrere Raffinierungsschritte-einschließlich Zonenraffinierung und Kalttiegel-Induktionsschmelzen-Tantal-MetalltiegelStellen Sie sicher, dass der Behälter praktisch keine Fremdkörper in die Schmelze einbringt. Dies ist für das Wachstum von Halbleiterkristallen, die Reduktion von Seltenerdmetallen und den Umgang mit Kernmaterial von wesentlicher Bedeutung.

 

Verunreinigung
Typischer Höchstwert (ppm) – 99,99 % Qualität
Wirkung bei Überschreitung
Fe
Kleiner oder gleich 5
Verändert die Legierungschemie und verursacht Einschlüsse
Ni
Kleiner oder gleich 3
Verringert die Korrosionsbeständigkeit
O
Kleiner oder gleich 5
Führt bei Temperatur zu Sprödigkeit
C
Kleiner oder gleich 10
Bildet harte Karbide, schwächt die Struktur

 

Industrielle Rollen von Tiegeln aus hochreinem Tantalmetall

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Halbleiterkristallwachstum​ – Eindämmung hochreiner Schmelzen für SiC, GaN und Saphir; beseitigt Dotierstoffverunreinigungen.
Elektrolyse von Seltenerdmetallen​ – Fluorid-/Chlorid-Schmelzen für Nd, Dy, Tb; bewahrt die magnetischen Eigenschaften.

Kernbrennstoffherstellung​ – Schmelzende Aktinidlegierung mit minimalen neutronenabsorbierenden Verunreinigungen.

 

Vorteile von Tiegeln aus hochreinem Tantalmetall​

DieseTantal-Metalltiegelprovide the highest℃of melt cleanliness, enabling defect‑free single crystals and high‑value metal production. Ultra‑low vapor pressure at >2500 Grad sorgen für Formstabilität bei langen Einsätzen. Die feine, rekristallisierte Kornstruktur verbessert die Kriechfestigkeit und ermöglicht den Einsatz unter mechanischen Belastungen bei 2000 Grad. Ihre glatte Oberfläche (Ra kleiner oder gleich 0,4 µm) minimiert die Keimbildung, erleichtert die Reinigung und gewährleistet die Konsistenz von Charge zu Charge in automatisierten Produktionsumgebungen mit hohem Durchsatz.

 

Customized 99.95% Pure Melting Tantalum crucible from ZhenAn

Wer wählt uns?

 

Unsere Produktvorteile
Hohe Reinheit
Reinheitsgrade von 99,995 % bis 99,997 %, mit außergewöhnlich geringen Verunreinigungen wie Pd und Cd.
Überlegene Drahtqualität
Die Drähte werden gleichmäßig in durchgehenden Längen abgewickelt, um einen reibungslosen Betrieb zu gewährleisten.
Glatte Oberfläche ohne Ölrückstände.
Keine Probleme mit der Drahtzuführung
Frei von Mängeln wie Partikeln, verhedderten Drähten, Knoten, Biegungen, Brüchen, Oxidation, Ausfällen des Sprühlichtbogens oder verstopften Düsen.
Kostenlose Testberichte
Wir bieten kostenlose Prüfberichte zu Spritzschichtdicke, Porosität, Haftfestigkeit und Beschichtungsuntersuchungen für Kondensatoren und thermisch gespritzte Zinkbeschichtungen an.

One-{0}}Lösung aus einer Hand

professionelles Team

hohe Qualität

 

 

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