Tantaltiegel mit einer Reinheit von 99,9 % und einem Außendurchmesser von 10 mm sind kompakte, robuste Gefäße, die für das industrielle Schmelzen, die Probenahme oder den Umgang mit reaktiven Metallen in kleinem Maßstab konzipiert sind, wenn Platzbeschränkungen und eine präzise Dosierung wichtig sind.
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Beschreibung
Technische Parameter
Definition hoher Reinheit in Tantaltiegeln
Ein Tantaltiegel hoher Reinheit wird aus raffiniertem Tantal hergestellt, wobei der Verunreinigungsgrad auf Teile-pro-Millionen minimiert wird und eine kontaminationsfreie Eindämmung{2}für industrielle Prozesse gewährleistet, bei denen die Materialintegrität Leistung und Ausbeute bestimmt.
Hohe Reinheit beginnt typischerweise bei 99,95 % Tantal, wobei Premiumqualitäten 99,99 % oder mehr erreichen. Die Verunreinigungskontrolle konzentriert sich auf die Beschränkung von Fe, Ni, Cr, O, N und C auf sehr niedrige ppm-Werte durch Dreifachschmelzprozesse (Vakuumlichtbogenumschmelzen + Elektronenstrahlschmelzen + Zonenveredelung). Dadurch wird sichergestellt, dass der Tiegel während der Hochtemperaturverarbeitung keine Fremdelemente in geschmolzene Metalle, Speziallegierungen oder Keramiken einbringt.
Verunreinigung
Typischer Höchstwert (ppm) – 99,99 % Qualität
Wirkung bei Überschreitung
Fe
Kleiner oder gleich 5
Verändert die Legierungschemie und verursacht Einschlüsse
Ni
Kleiner oder gleich 3
Reduziert die Korrosionsbeständigkeit der Schmelze
O
Kleiner oder gleich 5
Führt zur Sprödigkeit bei hohen Temperaturen
C
Kleiner oder gleich 10
Bildet Karbide, schwächt die Struktur
Industrielle Anwendungen mit hoher Reinheit
Seltene Erden und strategische Metalle – Elektrolytische Reduktion von Neodym oder Dysprosium in Fluoridschmelzen; Reinheit verhindert eine Verschlechterung der magnetischen Eigenschaften.Halbleiterziele – Schmelzen hoch{0}reiner Metalle (z. B. Molybdän, Wolfram) zum Sputtern; keine Dotierstoffverunreinigung.Kernbrennstoffherstellung – Enthält geschmolzene Aktinidlegierungen ohne Zusatz von Neutronenabsorbern.
High purity crucibles maintain structural stability at >2400 Grad in inerten Atmosphären mit vernachlässigbarem Dampfdruck, wodurch eine konsistente Chemie bei großen Chargen gewährleistet wird.
Betriebsvorteile
Extrem-geringe Ausgasung (<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) supports ultra-high-vacuum processes. Fine, recrystallized grain structure enhances creep resistance, allowing loads of 10 MPa at 2000 °C. Smooth surface finish (Ra ≤ 0.4 µm) aids cleaning and prevents melt adhesion, making them ideal for automated high-throughput lines in aerospace alloy and electronics material plants.
Verdampfungsmaterial 99,95 % 3N5 Tantaltiegel für Elektronenstrahlverdampfer
Tantalteile-Verarbeitungsanlage maßgeschneiderte hellgraue Tantaltiegel unterschiedlicher Größe zum Schmelzen von Prozessteilen
Maßgeschneiderter R05200 Ta 99,95 % reiner, polierter Tantaltiegel, Tantalcarbid pro kg Preis
