Sputtertarget aus reinem Molybdän

Sputtertarget aus reinem Molybdän

Aussehen: Silberweißes Metall
Mindestbestellmenge: 1 kg
Norm: ASTM B387
Modell: mo-1
Anfrage senden
Beschreibung
Technische Parameter
Prozess der Molybdän-Zielherstellung

 

Heißisostatisches Pressen (HIP): Bei dieser Methode wird zunächst Molybdänpulver bei hoher Temperatur und hohem Druck komprimiert, um ein dichtes Blockmaterial zu bilden. Die HIP-Technologie kann die Dichte und Gleichmäßigkeit des Materials verbessern, Poren und Verunreinigungen reduzieren und dem Endprodukt bessere mechanische Eigenschaften und eine bessere thermische Stabilität verleihen. Diese Methode eignet sich zur Herstellung von Molybdäntargets großer Größe oder komplexer Form.
Schmelzverfahren: Molybdänmetall wird bis zum Schmelzen erhitzt und dann zum Abkühlen und Erstarren in eine Form gegossen. Das Schmelzverfahren kann Molybdäntargets mit hoher Reinheit und gleichmäßiger Struktur erzeugen. Dieses Verfahren eignet sich zur Herstellung großer Mengen von Targets in Standardgröße.
Pulvermetallurgie-Verfahren: Molybdänpulver wird zunächst in Form gepresst und dann in einer Schutzatmosphäre gesintert. Durch die Pulvermetallurgie wird die Mikrostruktur der Molybdäntargets gleichmäßiger und auch die Herstellung spezieller Formen oder Designs erleichtert.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Dies ist eine fortschrittlichere Technologie, bei der molybdänhaltige Gase bei hohen Temperaturen zersetzt werden, um Molybdänatome direkt auf dem Substrat abzuscheiden. CVD kann Molybdäntargets mit extrem hoher Reinheit und spezifischen Mikrostrukturen erzeugen, die für Anwendungen mit extrem hohen Anforderungen an die Materialleistung geeignet sind.
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD): Ähnlich wie CVD, jedoch wird das Molybdänmaterial durch physikalische Methoden (wie Verdampfung oder Sputtern) vom Ausgangsmaterial auf das Substrat übertragen. Die PVD-Technologie eignet sich zur Herstellung von Molybdäntargets für ultradünne oder spezielle Beschichtungen.

 

Unsere Vorteile

 

1. Erstklassige Technologie und strenge Arbeitseinstellung

2. Professionelle Teams zur Lösung aller Arten von Problemen, die während des Herstellungsprozesses auftreten

3.Geringe Anschaffungskosten bei Wiederholungsbestellungen

4. Ausgezeichneter Kundenservice

 

Verwandte Parameter von Molybdän-Targetmaterialien

 

Maße

Anpassung

Produktname

Molybdän-Ziel

Form

Rundstab

Oberfläche

Poliert

Reinheit

99,95 % min.

Dichte

10,2 g/cm³

Schlagwörter

Molybdän-Ziel

Mindestbestellmenge

Auberginen ca. 1kg

Verpackung

Holzetui

Größe

Kundenanfrage

Grad

M01

 

Unternehmensumfeld und Kundenbesuche

pure moly metal sputtering target

High Purity Molybdenumn Sputtering Target

Das Unternehmen setzt seit vielen Jahren auf ausgefeilte Technologie, professionelle Ausrüstung und eine Gruppe von Technikern in der Edelmetallindustrie mit hervorragenden Produkten und zufriedenstellenden Dienstleistungen. Nach Jahren unermüdlicher Bemühungen wurden die Produkte des Unternehmens im In- und Ausland in Südkorea, Japan, Deutschland, Russland und anderen Ländern gut verkauft und von den Benutzern gut angenommen. Sie sind in den Reihen der qualitativ hochwertigen Lieferanten aufgeführt. Ich glaube, dass unsere Produkte und Dienstleistungen von Ihnen auf jeden Fall anerkannt und zufriedengestellt werden!

Beliebte label: reines Molybdän Sputtertarget, China reines Molybdän Sputtertarget Hersteller, Lieferanten, Fabrik, Molybdän -Metall zur Galvanisierung, Molybdän Metallwiderstand, technische Unterstützung von Molybdänmetall, Molybdän -Dünnblech, Planar Molybdän Ziel, Sinterte Molybdänstange