Tantal-Targetshaben folgende Vorteile:
„Hohe Reinheit und Gleichmäßigkeit“: Tantal-Targets sind in der Regel von hoher Reinheit (über 99,9 %), manchmal sogar bis zu 99,999 %. Diese hohe Reinheit stellt sicher, dass während des Filmabscheidungsprozesses keine unerwünschten Verunreinigungen eingebracht werden, während die gleichmäßige Mikrostruktur die Gleichmäßigkeit der Materialverteilung gewährleistet.
Ausgezeichnete physikalische und chemische Eigenschaften: Tantal-Targets haben einen hohen Schmelzpunkt (ca. 3017 Grad), hohe Festigkeit, hohe Härte (Mohs-Härte 9, nahe an Diamant) und ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit. Aufgrund dieser Eigenschaften funktionieren Tantal-Targets auch unter extremen Bedingungen gut und können hohen Temperaturen sowie starken Säuren und starken Laugen standhalten.
„Breites Anwendungsspektrum“: Tantal-Targets werden häufig in zahlreichen High-Tech-Bereichen eingesetzt, darunter in der Elektronik- und Halbleiterfertigung, bei Korrosionsschutzbeschichtungen, optischen und optoelektronischen Filmen, medizinischen Geräten usw.
In der Elektronik- und Halbleiterindustrie werden Tantalfolien häufig als Barriereschichtmaterialien bei der Herstellung integrierter Schaltkreise, insbesondere in der Kupferverbindungstechnologie, verwendet.