Detaillierte Parameter des Zhenan-Niob-Targets
Produkt:Niob-Sputtertarget, Nb-Ziel
Chemische Formel: Nb
Reinheit: 99,95 %, 99,99 %
Form: Scheibe, Platte, zylindrisches Ziel, abgestuftes Ziel, kundenspezifisch
Zhenan verfügt über mehr als 30 Jahre Erfahrung in der Herstellung von Niob-Targets mit 5000+ Partnern im In- und Ausland. Wir sind bestrebt, unseren Kunden Produkte von höchster Qualität zu den günstigsten und kostengünstigsten Preisen anzubieten.
Beschreibung des Niob-Sputtertargets
Niob-Sputtertarget ist ein hochreiner Niob-Metallrohstoff, der zum Sputtern von Abscheidungsbeschichtungen verwendet wird. Je nach Form können Niob-Sputtertargets in runde, rechteckige, quadratische, ringförmige, elliptische, zylindrische, flache und rotierende Niob-Targets unterteilt werden. Niob-Sputtertargets weisen eine hohe Duktilität auf und härten mit zunehmendem Verunreinigungsgehalt aus. Niob-Sputtertargets können in der Nuklearindustrie eingesetzt werden.
Spezifikationstabelle für die Zusammensetzung des Niob-Zielprodukts
| Element | R04200 (Reaktorqualität) | R04210 (kommerzielle Qualität) |
|---|---|---|
| O | 0.015 % max | 0.025 % max |
| C | 0.01 % max | 0.01 % max |
| N | 0.01 % max | 0.01 % max |
| H | 0.0015 % max | 0.0015 % max |
| Zr | 0.02 % max | 0.02 % max |
| Fe | 0.005 % max | 0.01 % max |
| Si | 0.005 % max | 0.005 % max |
| W | 0.03 % max | 0.005 % max |
| Ni | 0.005 % max | 0.0050 % max |
| Mo | 0.01 % max | 0.02 % max |
| Hf | 0.02 % max | 0.02 % max |
| Ti | 0.02 % max | 0.02 % max |
| Ta | 0,1 % max | 0,3 % max |
| Nb | Rest | Rest |
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