Sputtertarget aus reinem Nb-Metall

Sputtertarget aus reinem Nb-Metall

Reinheit: 99,95 % oder mehr
Dichte: 8,57 g/cm³
Oberfläche: Bearbeitete Oberfläche
Mindestbestellmenge: 1 Stück
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Beschreibung
Technische Parameter
Anwendung von Niobtargets

 

Niobtargets sind ein wichtiger Rohstoff für die Herstellung elektronischer Materialien, Halbleitermaterialien usw. Bei der Herstellung von Halbleitermaterialien werden Niobtargets zur Herstellung von optischen Fasern, Solarzellen, Dünnschichttransistoren, hochenergetischen Teilchendetektoren usw. verwendet. Bei der Herstellung elektronischer Materialien werden Niobtargets zur Herstellung von Kondensatoren, magnetischen Materialien, Leuchtdioden usw. verwendet. Darüber hinaus werden Niobtargets auch zur Herstellung von Materialien für die Luft- und Raumfahrt, Nuklearmaterialien usw. verwendet.

 

Verpackung und Eigenschaften von Niobtargets

 

Standardnummer Zugfestigkeit, mindestens lb/in2 (MPa) Streckgrenze (0,2 % Restverformung) mindestens, lb/in2 (MPa) Dehnung, minimal, %1 Zoll (25,4 mm) Messlänge
RO4200-1
RO4210-2
18000 (125) 12000 (85) 25

 

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Besuche von Käufern und Fotos der Unternehmensumgebung

 

pure Niobium metal sputtering target

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