Zirkonium -Metallziele mit hoher Reinheit

Zirkonium -Metallziele mit hoher Reinheit

Modell: Sputterziel
Form: Platte, rund, quadratisch usw.
Material: Zirkonium
Chemische Zusammensetzung: 99,99%min
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Beschreibung
Technische Parameter
Zirkoniumzielmaterialvorbereitungsprozess

 

Der Vorbereitungsprozess vonZirkoniumzielDas Material umfasst hauptsächlich Rohstoffzubereitung, Ziel -Leer -Vorbereitung, Sintern, Verarbeitung in Zielmaterial und Oberflächenbehandlung.

‌Raw Materialvorbereitung ‌:
Das Hauptrohmaterial ist reines Zirkoniumpulver oder Zirkoniumlegierungpulver. Zu den häufigen Zirkoniumlegierungen gehören Zirkoniumhafniumlegierung, Zirkonium-Niobiumlegierung usw. Diese Legierungen haben eine bessere thermische Stabilität und mechanische Eigenschaften.

‌Target leere Vorbereitung ‌:
Wenn Legierungspulver verwendet wird, muss Zirkoniumpulver und Leichtmetallpulver in unterschiedlichen Proportionen gleichmäßig gemischt werden, normalerweise mit einer Kugelmühle oder einem Vibrationsmixer zum Mischen.

Das gleichmäßige gemischte Pulver wird von einer Pressmaschine in einen Leerzeichen gedrückt. Zu den häufig verwendeten Formungsmethoden gehören kaltisostatische Pressen und heißes isostatisches Pressen.

‌Sintern‌:
Die gepresste Rohling wird bei hoher Temperatur gesintert, normalerweise durch heißes isostatisches Pressen. Die Sintertemperatur und die Zeit müssen gemäß den spezifischen Material- und Prozessanforderungen angepasst werden, normalerweise über 1500 Grad. Während des Sinterprozesses ist es notwendig, die Atmosphäre zu kontrollieren, um Oxidation und Kontamination zu vermeiden.

‌ Verarbeitung in Zielmaterial ‌::
Die gesinterte Blinke wird in die gewünschte Zielform, wie z. B. eine Scheibe, durch mechanische Verarbeitungsmethoden wie Drehen, Mahlen und Schleifen verarbeitet. Verwenden Sie hochpräzise Verarbeitungsgeräte, um die dimensionale Genauigkeit und Oberflächenqualität des Zielmaterials zu gewährleisten.

‌ Oberflächenbehandlung ‌:
Das verarbeitete Zielmaterial ist einer Oberflächenbehandlung wie Polieren oder chemischem Polieren ausgesetzt, um die Oberflächenfinale und die Gleichmäßigkeit zu verbessern. Verwenden Sie Methoden wie Ultraschallreinigung und chemische Reinigung, um Verunreinigungen auf der Oberfläche zu entfernen.

 

Grundlegende Parameterstandards von Zirkoniumzielen

 

Produktname Zirkonium (ZR) Sputterziel
Reinheit 99.5%~99.95%
Form Discs, Platten, Säulenziele, Schlauchziele, maßgeschneiderte
Abmessungen Runde Sputterziel:
Durchmesser:<18", Thickness: >0.04"
Rechteckiges Sputterziel:
Länge:<36", Width: <12", Thickness: >0.04"
Bindung Indium

 

Zhenan Zirkonium Zielproduktdetails Bilddisplay
zr sputtering target supplier
Zirkoniumsputter -Zielfirma
Zirconium sputtering target supplier
ZR Sputtering Target Company
Unsere Vorteile:
 

1. Technologie der ersten Klasse und die strenge Arbeitseinstellung

2. Professionelle Teams, um alle möglichen Probleme zu lösen, die Sie während des Herstellungsprozesses haben

3. Die Kaufkosten für sich wiederholte Bestellungen

4. EXCELLENT KUNDENSERVISERUNG

 

FAQ über uns

 

F: Welche Informationen sollten ich Sie wissen lassen, wenn ich ein Angebot erhalten möchte?

A: Die erforderliche Materialabmessung (Dicke*Breite*Länge, Durchmesser*Länge; Wenn möglich, liefern Sie bitte uns Zeichnungen).

Die erforderlichen weiteren Informationen wie Oberflächenzustand, Toleranzanforderung, die Menge und andere mechanische und technische Details.

Wenn dies möglich ist, geben wir bitte auch die Anwendung von Produkten an, wir empfehlen die am besten geeigneten Produkte mit Details zur Bestätigung.

 

F: Wie gurantieren Sie die Qualität der Produkte?

A: Jeder Schritt der Produktion und fertige Produkte wird von der QC -Abteilung inspiziert, bevor sie im Lager aufbewahrt werden. NG -Waren sind im abgeschlossenen Warenlager nicht zulässig.

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