Einführung und Herstellungsverfahren des Zirkoniumtargets
Zirkoniumtargets sind Materialien, die bei Dünnschichtabscheidungsprozessen verwendet werden und hauptsächlich aus dem Element Zirkonium (Zr) bestehen. Es hat einen hohen Schmelzpunkt, eine gute chemische Stabilität und eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit, was es zur idealen Wahl für die Herstellung von Halbleitern, optoelektronischen Geräten und dekorativen Filmen macht. Als Targetmaterial können Zirkoniumtargets in Prozessen wie der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) hochreinen Zirkoniumdampf erzeugen und so einen gleichmäßigen, hochwertigen Film bilden.
Zubereitung
Vakuumschmelzverfahren:
Verfahren: Zirkoniummetall in einer Vakuumumgebung schmelzen.
Vorteile: Vermeidung von Oxidation und Verunreinigungen und Sicherstellung einer hohen Reinheit des Zielmaterials.
Heißisostatische Presstechnologie:
Verfahren: Durch Verwendung von hoher Temperatur und hohem Druck wird Zirkoniumpulver zu einem Zielmaterial verdichtet.
Vorteile: Erzeugt eine hochdichte und gleichmäßige Zielstruktur.
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Spezifikationen des Zirkonium-Targets
Zugfestigkeitsanforderungen
| Grad | Zugfestigkeit (min) | Streckgrenze (min) | Dehnung (%) | ||
| Ksi | Mpa | Ksi | Mpa | ||
| 1 | 35 | 240 | 20 | 138 | 24 |
| 2 | 50 | 345 | 40 | 275 | 20 |
| 3 | 65 | 450 | 55 | 380 | 18 |
| 4 | 80 | 550 | 70 | 483 | 15 |
| 5 | 130 | 895 | 120 | 828 | 10 |
| 7 | 50 | 345 | 40 | 275 | 20 |
| 9 | 90 | 620 | 70 | 438 | 15 |
| 12 | 70 | 438 | 50 | 345 | 18 |
Unternehmensumfeld und Kundenbesuche
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