Zr-Sputtertarget

Zirkonium (Zr)-Sputtertargets haben die gleichen Eigenschaften wie ihr Rohmaterial. Ihre Dichte beträgt 6,49 g/cm³, ihr Schmelzpunkt liegt bei 1852 Grad Celsius und ihr Dampfdruck beträgt 10-4 Torr bei 1987 Grad Celsius.
Zirkonium-Sputtertargets werden häufig in den Bereichen dekorative Beschichtung, Halbleiter und optische Beschichtung verwendet.

Prozess zur Herstellung von Zirkonium-Targets
Materialvorbereitung - Elektronenstrahlschmelzen - Chemische Analyse - Schmieden - Walzen - Glühen - Metallografische Prüfung - Bearbeitung - Maßprüfung - Reinigung - Endkontrolle - Verpackung

Weit verbreitet in der Dünnschichtabscheidung, in Brennstoffzellen, Dekorationen, Halbleitern, Displays, LEDs und Photovoltaikgeräten, Funktionsbeschichtungen und anderen Bereichen der optischen Informationsspeicherung, in der Glasbeschichtungsindustrie wie Autoglas und Architekturglas, in der optischen Kommunikation und in anderen Bereichen.

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